第661章 光刻机的发展
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敌，但是从他们的角度来看，现在确实不是开放技术的好时机。可是聂鹏飞情真意切的长信，里面很多内容说的有理有据。
作为看过《大国崛起》并且知道聂鹏飞就是作者的他们，自然不会轻视聂鹏飞提出的各种论断和推测。所以左右为难之下京城干脆做出不予回复的态度。
而且根据专家团的分析，他们也得出结论：国内并不是完全没有自主规模化生产的可能。其中最主要的芯片和集成电路国内都有望在未来一段时间内突破生产瓶颈。
其实这时候的国内在前沿科技领域并不算特别落后，跟美苏之间的差距也不过是工业方面变现的生产能力。
就比如生产芯片的光刻机技术，就有包括华科、1445电子所、机电部45所等多家机构院所在研究。
这一时期主流上仍然使用的是接近式光刻机，这时期的掩模版不与硅片直接接触，而是在光刻机中加入测量工具，让两者间的距离尽量贴近。
但是光具有衍射性，会造成投影边缘模糊，进而造成精度下降、有较大的投影误差。
直到1974年美国PE推出投影式光刻机，把掩模版上的图形经过三次折射之后投射在硅片上，这样就能有效消除误差达到理想的分辨率，良品率直接从10%提高到70%以上。从而让芯片的价格大幅度下降。
后来在1978年GCA公司又推出DSW4800步进投影式光刻机，把掩模版上的图形缩小到原有的四分之一到五分之一，然后再投射到硅片上，一举提高了曝光强度和分辨率上限，让光刻机精度进入微米级。
而红星实验室在聂鹏飞的引导下，一开始的发展方向就是投影式，并且在机电部45所及后来的西山试验基地的配合下，实验性的造出了第一台投影式光刻机。
虽然各方面可能还不如后来PE推出的光刻机，而且良品率更是低到惨不忍睹的3%，但总归是走在正确的道路上。
第661章 光刻机的发展
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第661章 光刻机的发展 四合院：开局1942
